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          半導體工業的污水應該怎么處理?

          來源:純水設備??????2022-12-01 10:25:55??????點擊:
          純水設備http://www.ymhds.com隨著我國經濟的高速發展,半導體行業的發展也在迅速崛起,因此在半導體工業加工的過程中不可避免的會產生含有氟離子,銅離子,磷廢水的污染物廢水,下面就來列舉一些半導體工業廢水的處理方法都有哪些?

          半導體工業的污水應該怎么處理?

          方法/步驟

            含氟離子廢水處理:

            將廢水的p H值調整在6-7左右,再加入的過量的Ca Cl2和適量的絮凝劑,后續會行形成沉淀,部分污泥循環成為載體,在沉淀池中通過重力沉降能夠實現泥水分離。

            第一次反應時能夠去除80%的氟,純水設備再一次加入絮凝劑,氟化鈣及其其他形態沉淀,利用污泥泵輸送到污泥沉淀池,用板框式脫水機壓成泥餅外運,這時候產生的壓濾液進入其他的系統進一步處理。

            含磷離子廢水處理:

            含磷廢水中磷主要以PO43-為主,采用的方法為化學沉淀法和混凝劑沉降法的組合工藝,通過加入Ca Cl2生成難溶于水的Ca5(PO4)3OH沉淀。

            一級反應池的p H調整到5-6左右,二級反應池p H調整到8.5-9,三級反應池p H調整到9-9.5(確保完全生成羥基磷酸鈣),純水設備此工藝流程比較簡單,費用也比較低,對于含磷廢水處理有很大的適用性。

            與研磨廢水進行混合:

            將半導體器件制造中產生的電鍍廢水和研磨廢水進行混合,混合廢水泵入浸沒式膜過濾裝置過濾,過濾的水泵入納濾膜過濾裝置過濾,經過納濾膜過濾裝置過濾的水即可直接回用。純水設備,工業純水設備蘇州水處理設備,醫用GMP純化水設備 ,醫用水處理設備。

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